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砷化镓抛光液CM-S700,抛光液,化学抛光液

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    CM-S700主要由高纯度胶态二氧化硅组成,特别适用于2-6寸GaAs晶片的抛光,具有稳定性和分散性良好,去除率高、表面粗糙度小以及对工件无损伤等优点。即使在稀释倍率很高的情况下使用,仍具有很好的抛光效率和使用寿命。

CM-S700 is a colloidal silica slurry developed especially for polishing 2-6 inches GaAs wafer, with excellent particle stability and dispersal, it possesses a high removal rate, good surface effects and damage-free polishing. Even when used at high dilutions, CM-S700 delivers excellent processing efficiency and long slurry life.



型号Type

项目 Item 精抛 粗抛

SiO2含量Content of SiO2 (%) 15±2 35±2

pH (20℃) 10.0±0.5 10.0±0.5

比重 Specific gravity (20℃) 1.09±0.02 1.23±0.02

粘度 Viscosity (20℃,cps) ≤30 ≤18

碱游离度

Free Alkalinity as Na2O% m/m <0.2 <0.2

平均粒径

Average Particle Size (nm) 15-25 40-50

杀菌剂含量

Biocide Content (ppm) <200 <200

用途

Application 精抛

final polishing 粗抛

first polishing

包装 Package 5kg, 25kg, 260kg, 1T

符合RoHS标准 RoHS compliant

 
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